ЭЛЕКТРОИЗОЛЯЦИОННЫЕ ЭМАЛЕВЫЕ ПОКРЫТИЯ ДЛЯ СОВРЕМЕННОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ - Студенческий научный форум

XV Международная студенческая научная конференция Студенческий научный форум - 2023

ЭЛЕКТРОИЗОЛЯЦИОННЫЕ ЭМАЛЕВЫЕ ПОКРЫТИЯ ДЛЯ СОВРЕМЕННОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ

Дарьина О.С. 1
1Владимирский государственный университет им. А.Г. и Н.Г. Столетовых
 Комментарии
Текст работы размещён без изображений и формул.
Полная версия работы доступна во вкладке "Файлы работы" в формате PDF

Электроизоляционные эмалевые покрытия для современной электронной техники

Авиационная промышленность и специальная электронная техника для современного авиа- и ракетостроения получили колоссальное развитие в начале XXI века. Для придания материалам определенных функциональных свойств перспективным является использование эмалей на основе стекол различных составов, а также стеклокерамических покрытий [1]. Наибольший интерес представляют эмали, наносимые на поверхность подложки из стекла и керамики, а также ситаллов. Стекло также может быть использовано и в качестве наполнителя для композиционных материалов [2]. Так, ввиду диэлектрической природы стекла, возможно его использование в сфере микроэлектроники для создания толстопленочных конденсаторов и резисторов с улучшенными электрическими свойствами [1].

Рассмотрим синтез легкоплавких стабильных стекол для нанесения электроизоляционных эмалевых покрытий на подложки из стекла, керамики и ситаллов, применяющихся в современной микроэлектронике.

Основным критерием при выборе компонентов при синтезе эмалей для подложек из стекла и стеклокерамики является возможность получения эмалевых покрытий, совместимых с материалом подложки. Материалы подложек обладают следующими характеристиками:

листовое стекло

– температура начала деформации 600°С;

– температурный коэффициент линейного расширения 8,9·10-7 К-1;

– удельное электросопротивление при 100°С 1013 Ом·см.

корундовая керамика марки 22ХС

– температурный коэффициент линейного расширения 6,5·10-6 К-1;

– удельное электросопротивление при 100°С 1013 Ом·см.

На основании анализа свойств материалов подложек выявлено, что для синтеза электроизоляционных эмалей необходимо получить стекла с температурой формирования в интервале 450–600°С и значениями температурного коэффициента линейного расширения (ТКЛР) α=(6,0–9,0)·10-6 К-1 [1].

Для синтеза электроизоляционных эмалевых покрытий для подложек из стекла наиболее пригодными являются эмали на фосфатной и боратной основах, не содержащие токсичных компонентов.

Известны высокие электроизоляционные свойства боратных стекол и превосходство боратных стеклообразных систем по электрическим свойствам относительно силикатных систем.

Как фосфатные, так и боратные стекла отличаются легкоплавкостью, а также обладают рядом специфических свойств. Фосфатное стекло устойчиво к воздействию кислот – это свойство не характерно для эмалей с низкой температурой формирования. Фосфатные стекла также обладают высоким показателем преломления и способностью накопления электрического заряда. Недостаток фосфатных стекол – неустойчивость к воздействию щелочей. В ходе анализа была изучена химическая стойкость к щелочам эмалевых покрытий различных составов. Специфическим свойством боратных стекол является их способность поглощать медленные нейтроны. Боратные стекла также обладают высокой рентгенопрозрачностью. Борный ангидрид устойчив к воздействию паров щелочных металлов.

При синтезе электроизоляционных эмалевых покрытий на основе фосфатных стекол на электросопротивление положительно влияет введение в состав небольшого количества Al2O3, встраивающегося в структурную сетку и увеличивающего электроизоляционные свойства, в отличие от силикатного стекла, где встраивание в кремнекислородный тетраэдр приводит к обратному результату [1].

Известно, что фосфатные стекла обладают меньшей химической стойкостью к щелочам и воде. Благоприятно влияет на химическую стойкость введение оксида цинка ZnO, при увеличении его содержания наблюдается уменьшение электропроводности стекол. Это явление объясняется участием ионов Zn2+ в построении структурного каркаса стекла при воздействии щелочей путем образования [ZnO4]-тетраэдров. В составе стекла обязательно присутствие по крайней мере двух оксидов щелочных металлов, так как содержание лишь Li2O приводит к расстекловыванию, содержание только Na2O уменьшает химическую стойкость, содержание только K2O повышает температуру начала деформации (Тн.д) до нежелательного уровня.

Из всего выше сказанного можно сделать вывод, что для синтеза электроизоляционных эмалей наиболее пригодны фосфатная и цинкоборосиликатная стеклообразующие системы [1].

Полученные при синтезе эмали обладают высокими электроизоляционными свойствами, сопоставимыми с показателями подложки. Максимальное поверхностное сопротивление образцов составляет 7,29·1014 Ом·см.

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

Солнцев С. С., Соловьева Г. А., Денисова В. С. Электроизоляционные эмалевые покрытия для современной электронной техники // Электронный научный журнал "ТРУДЫ ВИАМ". - 2014. - № 9; URL: http://viam-works.ru/ru/articles?art_id=714 (дата обращения: 14.05.2022);

Стеклокерамика [Электронный ресурс] / Информационный портал Stekloport – Режим доступа: https://www.stekloport.ru/articles/Glass_ceramic_ru.php свободный – Загл. с экрана;

Просмотров работы: 19