В качестве новых перспективных материалов для изготовления сульфокатионитовых ионообменных мембран интерес представляют ароматические полиамиды и полисульфоны (ПС).
В настоящей работе были использованы ароматические полиамиды содержащие сульфогруппы, которые синтезированы низкотемпературной поликонденсацией диаминосульфокислот с дихлорангидридами фталевых кислот в вводно-органических средах с использованием смешивающихся и несмешивающихся с водой растворителей.[1] Показана также возможность синтеза высокомолекулярных водорастворимых сульфосодержащих полиамидов в отсутствии органических растворителей путем смешивания водного раствора 4,4´ - диаминодифенил – 2,2´ - дисульфокислоты с расплавом дихлорангидрида. Проведены исследования их растворимости и гидродинамических характеристик растворов сульфосодержащих полиамидов в серной кислоте и воде.
Строение базовых сульфонатсодержащих полиамидов приведены в табл.1.
Таблица 1
Ароматические сульфонатсодержащие полиамиды.
На основе этих гомополимеров, их сополимеров, а также механических смесей с незамещенными ароматическими полиамидами, например полиметафениленизофталамидом, были получены пленки обладающие высоким физико-механическими свойствами: разрушающе напряжение при растяжении составляет 80-120 МПа при относительном удлинении 6-12 %. Удельная протонная проводимость при комнатной температуре ряда образцов достигает 10-2 См/см.
В данной работе также были систематически исследованы условия сульфирования ПС и получены образцы гомогенных мембран с оптимальным набором основных физико-химических характеристик и выявлены пределы сульфирования данного полимера, в рамках которого возможно получение пленочного мембранного материала.
Проведено тестирование транспортных свойств синтезированных образцов мембран. Выявлена возможность применения гомогенных сульфокатионитовых мембран на полиамидной и полисульфоновой основе в составе единичных ячеек водородно-воздушного топливного элемента.
Литература
Федотов Ю.А., Кирш Ю.Э. Сульфосодержащие ароматические полиамиды в качестве перспективных мембранных материалов // Критические технологии.Мембраны.2000.№5.С.17-28.